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SiC-SBD和Si-FRED: 誰(shuí)能突破功率半導體器件性能天花板?

發(fā)布時(shí)間:2021-12-28 來(lái)源:Vishay 責任編輯:wenwei

【導讀】功率半導體器件,也被稱(chēng)作電力電子器件,是用于電力設備的電能變換和控制電路的大功率電子器件,由于其性能的優(yōu)劣直接關(guān)系到能耗的多少,所以在當今節能減排的大趨勢下備受重視,成為了電子圈關(guān)注的一個(gè)焦點(diǎn)。


既然成為焦點(diǎn),那么大家對其的要求也就會(huì )越來(lái)越高。如果要給“你心目中理想的功率半導體器件”畫(huà)個(gè)像,相信很多人都會(huì )做出如下的描述:


1、高耐壓:由于是和較大的功率打交道,所以耐壓能力會(huì )是一個(gè)硬指標,為此功率器件制造往往采用不同于一般邏輯器件的半導體工藝。

2、高頻率:更高的開(kāi)關(guān)頻率不僅能夠提升功率器件自身的性能,還能夠帶來(lái)一個(gè)明顯的優(yōu)勢,就是允許使用更小的外圍元件,進(jìn)而減小系統整體的尺寸。

3、高可靠:由于要承載更高的功率密度,所以功率器件需要耐高溫,具有更高的熱穩定性,以及對抗過(guò)流過(guò)壓等瞬變的能力。

4、低功耗:影響功率器件功耗的因素有很多,以一個(gè)功率二極管為例,其功耗主要包括與反向恢復過(guò)程相關(guān)的開(kāi)關(guān)損耗、與正向壓降 VF 相關(guān)的正向導通損耗,以及反向漏電流帶來(lái)的反向損耗。


在現實(shí)中,功率器件的開(kāi)發(fā)者就是照著(zhù)這個(gè)“三高一低”的理想樣貌去打造產(chǎn)品的。但麻煩的是,在我們所熟知基于硅(Si)材料的器件中,上述這些優(yōu)點(diǎn)很難在一顆器件上實(shí)現,往往它們彼此之間是互相矛盾的,所以人們就不得不在魚(yú)和熊掌之間做取舍。


Si功率器件的瓶頸


而對于功率器件的應用者來(lái)說(shuō),同樣難于找到一顆能夠滿(mǎn)足自己對功率器件所有期望的“完美”器件,因此在選料時(shí)經(jīng)常會(huì )陷入糾結之中。


仍然以二極管為例,如果你想選一款比較“快”的器件——也就是支持更高的開(kāi)關(guān)頻率——大家首先會(huì )想到肖特基勢壘二極管(SBD),因為 SBD 不是利用PN結原理制作的,而是利用金屬與半導體接觸形成的金屬-半導體結原理制成的熱載流子二極管,因此在反向恢復時(shí)不像 PN 結二極管那樣存在電荷存儲效應,需要一個(gè)反向恢復時(shí)間 trr 去消除這些電荷,所以其開(kāi)關(guān)速度非???,開(kāi)關(guān)損耗也小。但是 SBD 有一個(gè)缺點(diǎn),就是反向耐壓做不高,經(jīng)過(guò)工藝改進(jìn)也只能達到 200V 左右,這在功率半導體應用方面,可以說(shuō)是一個(gè)“硬傷”。


而想要提高反向耐壓,就要使用 PN 結結構的功率二極管,但是由于反向恢復時(shí)的電荷存儲效應,速度就快不了。為了解決這個(gè)問(wèn)題,人們通過(guò)在二極管中摻雜貴金屬的方法開(kāi)發(fā)出了快速恢復和超快速恢復二極管(FRD),顧名思義這種器件就是在高頻率和高耐壓兩者之間找到了一個(gè)最佳平衡點(diǎn),在確保足夠的反向耐壓特性(通常在 1000V 以上)的同時(shí)盡可能縮小反向恢復時(shí)間 trr(可以達到幾十納秒),而導致導通壓降變高,得不償失。


但是,只要是 PN 結 Si 器件,在功耗上都會(huì )面臨著(zhù)下面這些挑戰:


●    正向切換到反向時(shí),積聚在漂移層內的少數載流子“消亡”過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生很大的瞬態(tài)反向恢復電流,從而產(chǎn)生較大的開(kāi)關(guān)損耗。

●    正向電流越大,或者溫度越高,恢復時(shí)間越長(cháng),恢復電流越大,損耗也會(huì )更大。

●    作為 SBD,想要降低正向開(kāi)啟電壓,減少正向導通損耗,就要降低肖特基勢壘,但肖特基勢壘的降低會(huì )導致反向偏壓時(shí)的漏電流增大,這又是一個(gè)兩難的抉擇。


因此,從上面的分析可以看出,無(wú)論是選擇哪種功率二極管,都不是一個(gè)“萬(wàn)全之策”。究其原因,這是因為制造傳統功率器件的 Si 材料已經(jīng)達到了其物理極限,哪怕是某個(gè)性能提升一小步都很難,有時(shí)還會(huì )對其他性能帶來(lái)負面影響。所以說(shuō),想要打破功率器件性能提升的“天花板”,只在原有半導體材料上兜兜轉轉是不行的,必須從新材料上尋找突破口。


SiC材料帶來(lái)的機會(huì )


于是第三代寬禁帶半導體材料走入人們的視野。其實(shí)對這些材料的研究歷史并不短,但是近年來(lái)市場(chǎng)和用戶(hù)對突破功率器件性能瓶頸的渴望,促使相關(guān)材料的研發(fā)和商用在加速,其中碳化硅(SiC)就是一個(gè)重要的發(fā)力點(diǎn)。


SiC 除了具備優(yōu)異的性能之外,還具有出色的熱穩定性、機械穩定性和化學(xué)穩定性,這就為打造新一代的功率器件提供了一塊堅固的基石。


如今,利用 SiC 優(yōu)異的特質(zhì)開(kāi)發(fā)創(chuàng )新功率器件的競逐已經(jīng)開(kāi)始,在這方面,Vishay 憑借在功率半導體領(lǐng)域深厚的技術(shù)積淀,以及對 SiC 材料的深入理解,開(kāi)發(fā)出了全新的碳化硅肖特基二極管(SiC-SBD)產(chǎn)品,這些功率二極管擊穿電壓可達 650V,包括 4A~20A 單管器件和 16A~40A 的共陰極雙管器件,可在 +175?C 高溫下工作,且具有高浪涌保護能力,在低功耗表現方面與傳統的 Si 功率二極管相比,更是一騎絕塵。


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圖1:Vishay全新的SiC-SBD產(chǎn)品


看過(guò) Vishay SiC-SBD 的性能參數(見(jiàn)表1),你一定會(huì )得出結論——這就是那顆滿(mǎn)足“三高一低”標準的功率器件。


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表1:Vishay SiC-SBD 產(chǎn)品主要特性


Vishay SiC-SBD是如何煉成的?


這樣優(yōu)異的性能是如何煉成的,下面我們就來(lái)細細品讀。


首先,由于 SiC 具有10倍于 Si 材料的絕緣擊穿電場(chǎng),這意味著(zhù)即使采用 SBD 的結構,而不是更耐壓的PN結,SiC-SBD 的反向耐壓也可以做到 600V 以上,甚至可以做到數千伏。Vishay 的 SiC-SBD 額定反向耐壓就達到了 650V。


其次,SiC- SBD 同樣繼承了肖特基二極管高頻高速的特性,原理上不會(huì )在電壓正反轉換時(shí)發(fā)生少數載流子存儲積聚的現象,應用于高頻場(chǎng)合不會(huì )有壓力。


再有,就是 SiC 器件最為人稱(chēng)道的功耗上的優(yōu)勢。


●    第一,由于 SiC-SBD 在反向恢復時(shí)沒(méi)有PN結的電荷存儲效應,只產(chǎn)生使結電容放電程度的小電流,所以與 FRD 相比,開(kāi)關(guān)損耗大幅減少。

●    第二,一般高耐壓功率器件的阻抗,主要取決于形成高絕緣擊穿場(chǎng)強的漂移層的阻抗,與Si器件相比,SiC 能夠以更高的雜質(zhì)濃度和厚度更薄的漂移層實(shí)現足夠的耐壓特性,因此單位面積導通電阻非常低,帶來(lái)更低的正向導通損耗。

●    第三,在反向漏電流方面,Vishay 的 SiC-SBD 也做得不錯,可以有效控制反向損耗的大小。


此外,Vishay的SiC-SBD還有一個(gè)特別值得一提的特性,就是其通過(guò)采用獨特的MPS(Merged PN Schottky)結構,為器件帶來(lái)了更高的浪涌保護能力。簡(jiǎn)單地說(shuō),MPS 結構就是在 SBD 的正極增加一個(gè) PN 結,當器件通過(guò)高電流時(shí),這個(gè) PN 結通過(guò)注入少數載流子增加漂移區的導通性,進(jìn)而將正向電壓 VF 控制在低水平。這樣做的效果顯而易見(jiàn),從圖3中可以看到,一個(gè)“純” SBD 隨著(zhù)正向電流 IF 的增加,正向電壓 VF 會(huì )呈指數級增長(cháng);而采用 MPS 架構的 SBD 則無(wú)論 IF 的高低,VF 都會(huì )保持在一個(gè)穩定的水平,顯現出了極佳的浪涌保護能力。


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圖2:純SBD結構(左)與基于MPS工藝的SBD(右)的區別


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圖3:基于MPS工藝的SBD與純SBD的浪涌保護能力比較


面對多樣化的需求


通過(guò)上文,想必大家都已經(jīng)對 SiC-SBD 在性能上的優(yōu)勢印象深刻,但是當開(kāi)發(fā)者進(jìn)行現實(shí)的技術(shù)決策時(shí),SiC 器件的一個(gè)“不足”還是可能會(huì )讓人猶豫,那就是——其成本相對較高。


畢竟,SiC 還是一個(gè)比較新的領(lǐng)域,今天其技術(shù)和配套產(chǎn)業(yè)鏈的成熟度還無(wú)法與 Si 器件相比。這也就使得 SiC 器件在短期內還難于覆蓋更全面的電力電子應用的要求,特別是那些效益成本比要求更高的應用。


也正是由于這個(gè)原因,盡管硅基功率器件已經(jīng)越發(fā)接近其理論上的性能“天花板”,但是對其性能潛力深度挖掘的努力仍然沒(méi)有停止,而且這同樣也十分考驗廠(chǎng)商實(shí)力。因此,Vishay 在加快其 SiC 功率器件創(chuàng )新步伐的同時(shí),也在不斷鞏固自身在硅基功率器件方面的優(yōu)勢,第5代 FRED Pt? 超快恢復二極管就是其中的一個(gè)代表作。


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圖4:Vishay 600V 第5代 FRED Pt?超快恢復二極管


比如 Vishay 推出的 600V第5代 FRED Pt? 超快恢復二極管,支持 15A 至 75A 的電流,在一些特性上,具備了能夠和 SiC-SBD 比肩的實(shí)力。


1、開(kāi)關(guān)頻率:該系列產(chǎn)品與同類(lèi)產(chǎn)品相比,表現十分搶眼,比如 15A 的 VS-E5TX1506-M3 的反向恢復電荷僅為 578nC,反向恢復時(shí)間只需要 19nS。

2、功耗表現:第5代 FRED Pt?在開(kāi)關(guān)損耗、正向損耗和反向損耗特性方面進(jìn)行了系統性的改進(jìn),因此在 50kHz 頻率應用范圍內,除了SiC器件,可以多一個(gè)高性?xún)r(jià)比的選擇。

3、工作溫度:這個(gè)系列的產(chǎn)品,可以支持與 SiC-SBD 相同的 175℃ 最高工作溫度。

4、產(chǎn)品組合:600V 第5代 FRED Pt?系列產(chǎn)品中包括側重更低的 Qrr和更短的 trr的 X 型器件,以及在正向導通壓降上表現更好的 H 型器件,開(kāi)發(fā)者可以根據目標應用的要求進(jìn)行靈活選擇。而且,目前該系列還可以提供符合 AEC-Q101 標準的車(chē)規級產(chǎn)品,這對汽車(chē)電子開(kāi)發(fā)者更是一個(gè)好消息。

 

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表2:Vishay 600V 第5代 FRED Pt?超快恢復二極管系列產(chǎn)品特性


通過(guò)在硅基 FRD 和 SiC-SBD 兩個(gè)技術(shù)路線(xiàn)上的齊頭并進(jìn),Vishay 可以針對多樣化的需求,為開(kāi)發(fā)者提供更多的選擇,不論是追求更高的性能,還是要求優(yōu)異的成本效益,Vishay 都可以根據客戶(hù)實(shí)際的要求,提供出色的一站式的解決方案。



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