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“環(huán)抱”晶體管與“三明治”布線(xiàn)

發(fā)布時(shí)間:2024-09-16 責任編輯:lina

【導讀】今天,我們將介紹英特爾的兩項突破性技術(shù):RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管和PowerVia背面供電技術(shù)。這兩項技術(shù)首次成功集成于Intel 20A制程節點(diǎn),也將用于Intel 18A。


在半導體制程技術(shù)的前沿,英特爾正穩步推進(jìn)其“四年五個(gè)制程節點(diǎn)”計劃,加速實(shí)現在2025年推出尖端的制程節點(diǎn)Intel 18A。


今天,我們將介紹英特爾的兩項突破性技術(shù):RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管和PowerVia背面供電技術(shù)。這兩項技術(shù)首次成功集成于Intel 20A制程節點(diǎn),也將用于Intel 18A。


RibbonFET:柵極“環(huán)抱”晶體管


通過(guò)RibbonFET晶體管,英特爾實(shí)現了全環(huán)繞柵極(GAA)架構。在晶體管中,柵極扮演著(zhù)關(guān)鍵的開(kāi)關(guān)角色,控制著(zhù)電流的流動(dòng)。RibbonFET使得柵極能夠全面環(huán)繞帶狀的晶體管溝道,這一創(chuàng )新帶來(lái)了三大優(yōu)勢:


節約空間


晶體管溝道的垂直堆疊,相較于傳統的水平堆疊,大幅減少了空間占用,有助于晶體管的進(jìn)一步微縮;


“環(huán)抱”晶體管與“三明治”布線(xiàn)

RibbonFET晶體管與FinFET晶體管(鰭式場(chǎng)效應晶體管)的對比示意圖


RibbonFET晶體管與FinFET晶體管(鰭式場(chǎng)效應晶體管)的對比示意圖


性能提升


柵極的全面環(huán)繞增強了對電流的控制,無(wú)論在何種電壓下,都能提供更強的驅動(dòng)電流,讓晶體管開(kāi)關(guān)的速度更快,從而提升晶體管性能;


靈活設計


晶體管溝道可以根據不同的應用需求進(jìn)行寬度調整,為芯片設計帶來(lái)了更高的靈活性。


PowerVia:從“披薩”到“三明治”的轉變


PowerVia背面供電技術(shù)改變了芯片布線(xiàn)的邏輯。


傳統上,計算機芯片的制造過(guò)程類(lèi)似于制作“披薩”,自下而上,先制造晶體管,再構建線(xiàn)路層,同時(shí)用于互連和供電。然而,隨著(zhù)晶體管尺寸的不斷縮小,線(xiàn)路層變得越來(lái)越“擁擠”,復雜的布線(xiàn)成為了性能提升的瓶頸。


英特爾通過(guò)PowerVia實(shí)現了電源線(xiàn)與互連線(xiàn)的分離。首先制造晶體管,然后添加互連層,最后將晶圓翻轉并打磨,以便在晶體管的底層接上電源線(xiàn)。形象地說(shuō),這一過(guò)程讓芯片制造更像是制作“三明治”。


“環(huán)抱”晶體管與“三明治”布線(xiàn)
PowerVia革新了晶體管的布線(xiàn)方式


背面供電技術(shù)讓晶體管的供電路徑變得更加直接,有效改善了供電,減少了信號串擾,降低了功耗。測試顯示,PowerVia能夠將平臺電壓降低優(yōu)化30%。


同時(shí),這種新的供電方式還讓芯片內部的空間得到了更高效的利用,使得芯片設計公司能夠在不犧牲資源的前提下提高晶體管密度,顯著(zhù)提升性能。測試結果表明,采用PowerVia技術(shù)可以實(shí)現6%的頻率增益和超過(guò)90%的標準單元利用率。


Intel 20A和Intel 18A的技術(shù)演進(jìn)


半導體技術(shù)的創(chuàng )新是一個(gè)不斷迭代的過(guò)程。在Intel 20A制程節點(diǎn)上,英特爾首次成功集成了RibbonFET和PowerVia這兩項突破性技術(shù)?;贗ntel 20A的技術(shù)實(shí)踐,這兩項技術(shù)將被應用于采用Intel 18A制程節點(diǎn)的首批產(chǎn)品:AI PC客戶(hù)端處理器Panther Lake和服務(wù)器處理器Clearwater Forest。目前,新產(chǎn)品的樣片已經(jīng)出廠(chǎng)、上電并成功啟動(dòng)操作系統,預計將在2025年實(shí)現量產(chǎn)。


“環(huán)抱”晶體管與“三明治”布線(xiàn)

Intel 18A晶圓


此外,這兩項技術(shù)也將通過(guò)Intel 18A向英特爾代工(Intel Foundry)的客戶(hù)提供。Intel 18A的缺陷密度已達到D0級別,小于0.40,顯示出其在晶圓廠(chǎng)中的生產(chǎn)狀況良好,良率表現優(yōu)秀。今年7月,英特爾還發(fā)布了Intel 18A制程設計套件(PDK)的1.0版本,得到了生態(tài)系統的積極響應。

本文轉載自:英特爾資訊


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