2013年12月17日，盛美半導體設備（上海）有限公司的核心清洗專(zhuān)利之一獲得了包括美國、日本、新加坡和中國的授權，其他核心清洗專(zhuān)利也在審批中。盛美擁有完整的自主知識產(chǎn)權，已經(jīng)獲得60多個(gè)國際專(zhuān)利，還有100多個(gè)專(zhuān)利正在申請中。 

 

此次獲得授權的專(zhuān)利是一種用于清洗并調整半導體基材，諸如晶片的表面的裝置，包括可旋轉的夾盤(pán)、腔體、用于收集清洗溶液并具有一或多個(gè)排水出口的可旋轉的轉盤(pán)、用于收集多種清洗溶液的多個(gè)接收器、用于驅動(dòng)夾盤(pán)的第一電機、用于驅動(dòng)轉盤(pán)第二電機。轉盤(pán)內的排水出口可置于指定接收器的正上方。由轉盤(pán)所收集的清洗溶液可導入指定的接收器中。 

 

 

圖1：  專(zhuān)利配圖 

 

“本裝置的一大特色就是其具有有效并可精確控制的清洗溶液循環(huán)，將交叉污染控制到最小。”盛美半導體設備公司的創(chuàng )始人、首席執行官王暉博士說(shuō)，“通過(guò)遮擋板位置的上升和下降來(lái)控制藥液的回收，也可以通過(guò)藥液回收碟的旋轉使排放口對準不同的藥液接受口，實(shí)現多種藥液的回收分離。本系統最多可以完成五種化學(xué)藥液的回收與排放，充分滿(mǎn)足客戶(hù)復雜工藝對多種清洗藥液需求的要求。”