2024年3月20-22日，頗爾中國在上海新國際博覽中心N4場(chǎng)館#4471號為期三天的 SEMICON 2024展覽閃耀亮相。這場(chǎng)展會(huì )匯聚了1100多家半導體展商，現場(chǎng)人頭攢動(dòng)， 成為業(yè)界的焦點(diǎn)。
頗爾微電子全球副總裁Dasent Shangaza，頗爾中國總經(jīng)理陳淮，頗爾微電子全球營(yíng)銷(xiāo)副總裁Soni Ankush，頗爾中國微電子事業(yè)部總經(jīng)理陳磊等頗爾高層共同出席本次展會(huì )，為來(lái)賓介紹公司的宗旨和產(chǎn)品策略，耐心解答各類(lèi)問(wèn)題。在展臺前，新老客戶(hù)紛紛駐足，一同分享市場(chǎng)最前沿的信息，架起了一道交流的橋梁。
作為過(guò)濾、分離和純化解決方案的專(zhuān)家， 頗爾（PALL）非常榮幸地在現場(chǎng)展示了適用于工藝氣體、研磨液、濕式蝕刻化學(xué)品、溶劑、光阻和其他工藝消耗品的過(guò)濾產(chǎn)品，到場(chǎng)的觀(guān)眾可以近距離感受頗爾產(chǎn)品工藝的精湛之處。我們深知在半導體行業(yè)，對產(chǎn)品質(zhì)量和工藝的精益求精至關(guān)重要。
同時(shí)，在線(xiàn)上，我們通過(guò)直播的形式為大家帶來(lái)了一場(chǎng)酣暢淋漓的知識與技術(shù)的分享。我們的專(zhuān)家將與觀(guān)眾互動(dòng)，解答問(wèn)題，分享行業(yè)趨勢和最佳實(shí)踐。
Litho-光刻應用產(chǎn)品系列
-去除光刻膠中的顆粒及膠體，尼龍和HDPE不同材質(zhì)適合不同應用場(chǎng)景
-減少Litho工藝中缺陷的產(chǎn)生
-Litho filter具有高精度，高潔凈度，低金屬離子析出，低有機物析出及低壓損的特點(diǎn)
WET應用產(chǎn)品系列
-優(yōu)良的化學(xué)兼容性，適合苛刻的應用條件
-高精度，高流量，高清潔度，低金屬離子和低有機物析出
CMP應用產(chǎn)品系列
-漸變孔徑分布，高攔截效率，不改變研磨顆粒的粒徑分布
-高納污量，高壽命，低壓損
-減少scratch缺陷產(chǎn)生
氣體過(guò)濾
-可用于過(guò)濾≥3nm的工藝氣體
-適用于不同溫度，不同流量，不同點(diǎn)位的各種反應氣體，干燥空氣的過(guò)濾
Profile ll?熔噴過(guò)濾器產(chǎn)品系列
高效絕對精度深層熔噴濾芯，采用Pall頗爾專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)技術(shù)，可實(shí)現99.98%過(guò)濾效率。同時(shí)專(zhuān)業(yè)的工藝，連續變化的孔隙結構、范圍廣泛的孔徑與濾芯的深度共同實(shí)現了濾芯的卓越使用壽命，可以延長(cháng)濾芯多達六倍使用壽命。
Gaskleen?氣體過(guò)濾產(chǎn)品系列
頗爾Gaskleen?頂部安裝式過(guò)濾器組件，非常適合用于集成氣體輸送系統，并且易于在安裝基板上進(jìn)行檢修和更換。該組件可在高達100slpm流速下工作，可用于多種接口。
Gaskleen?6101系列采用PFA濾芯，精度≥3nm，緊湊型設計，進(jìn)出口不同大小和連接形式，大膜面積設計，實(shí)現低壓差，高流量，在半導體行業(yè)廣泛應用。
關(guān)于新加坡工廠(chǎng)
很高興可以借SEMICON 2024 的機會(huì )與您分享 PALL 即將在新加坡建設一家新工廠(chǎng)的消息。 這座新工廠(chǎng)將配備先進(jìn)的技術(shù)， 產(chǎn)品主要服務(wù)于光刻和濕法蝕刻應用的過(guò)濾和純化需求，它將促進(jìn)lithography和 wet-etch的進(jìn)一步發(fā)展。
通過(guò)在新加坡和筑波進(jìn)行大規模投資， Pall 將能夠更好地滿(mǎn)足不斷增長(cháng)的半導體客戶(hù)需求，鑄造更加穩定的供應鏈和更加高質(zhì)量的產(chǎn)品。
SEMICON 2024雖已落幕
頗爾的精彩未完待續
期待SEMICON 2025
與您再見(jiàn)
