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傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法

發(fā)布時(shí)間:2021-02-23 來(lái)源:Ling Jiang, Frank Wang, Keith Szolusha, 和 Kurk Mathews 責任編輯:wenwei

【導讀】開(kāi)關(guān)穩壓器的EMI分為電磁輻射和傳導輻射(CE)。本文重點(diǎn)討論傳導輻射,其可進(jìn)一步分為兩類(lèi):共模(CM)噪聲和差模(DM)噪聲。為什么要區分CM-DM?對CM噪聲有效的EMI抑制技術(shù)不一定對DM噪聲有效,反之亦然,因此,確定傳導輻射的來(lái)源可以節省花在抑制噪聲上的時(shí)間和金錢(qián)。本文介紹一種將CM輻射和DM輻射從 LTC7818控制的開(kāi)關(guān)穩壓器中分離出來(lái)的實(shí)用方法。知道CM噪聲和DM噪聲在CE頻譜中出現的位置,電源設計人員便可有效應用EMI抑制技術(shù),這從長(cháng)遠來(lái)看可以節省設計時(shí)間和BOM成本。
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖1.降壓轉換器中的CM噪聲路徑和DM噪聲路徑
 
圖1顯示了典型降壓轉換器的CM噪聲和DM噪聲路徑。DM噪聲在電源線(xiàn)和返回線(xiàn)之間產(chǎn)生,而CM噪聲是通過(guò)雜散電容CSTRAY在電源線(xiàn)和接地層(例如銅測試臺)之間產(chǎn)生。用于CE測量的LISN位于電源和降壓轉換器之間。LISN本身不能用于直接測量CM和DM噪聲,但它確實(shí)能測量電源和返回電源線(xiàn)噪聲——分別為圖1中的V1和V2。這些電壓是在50Ω電阻上測得的。根據CM和DM噪聲的定義,如圖1所示,V1和V2可以分別表示為CM電壓(VCM)和DM電壓(VDM)的和與差。因此,V1和V2的平均值就是VCM,而V1和V2之差的一半就是VDM。
 
測量CM噪聲和DM噪聲
 
T型功率合成器是一種無(wú)源器件,可將兩個(gè)輸入信號合成為一個(gè)端口輸出。0°合成器在輸出端口產(chǎn)生輸入信號的矢量和,而180°合成器產(chǎn)生輸入信號的矢量差1。因此,0°合成器可用于產(chǎn)生VCM,180°合成器產(chǎn)生 VDM.
 
圖2所示的兩個(gè)合成器ZFSC-2-1W+ (0°)和ZFSCJ-2-1+ (180°)來(lái)自Mini-Circuits,用于測量1 MHz至108 MHz的VCM和VDM。對于這些器件,頻率低于1 MHz時(shí)測量誤差會(huì )增大。對于較低頻率的測量,應使用其他合成器,例如ZMSC-2-1+ (0°)和ZMSCJ-2-2 (180°)。
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖2.0°和180°合成器
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖3.用于測量(a) VCM和(b) VDM的實(shí)驗裝置
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖4.用于測量CM噪聲和DM噪聲的測試設置
 
測試設置如圖3所示。功率合成器已添加到標準CE測試設置中。LISN針對電源線(xiàn)和返回線(xiàn)的輸出分別連接到合成器的輸入端口1和輸入端口2。0°合成器的輸出電壓為VS_CM = V1 + V2;180°合成器的輸出電壓為VS_DM = V1 – V2。
 
合成器的輸出信號VS_CM和VS_DM必須在測試接收器中處理,以產(chǎn)生VCM和VDM。首先,功率合成器已指定接收器中補償的插入損耗。其次,由于VCM = 0.5 VS_CM且VDM = 0.5 VS_DM,因此測試接收器從接收到的信號中再減去6 dBμV。補償這兩個(gè)因素之后,在測試接收器中讀出測得的CM噪聲和DM噪聲。
 
CM噪聲和DM噪聲測量的實(shí)驗驗證
 
使用一個(gè)裝有雙降壓轉換器的標準演示板來(lái)驗證此方法。演示板的開(kāi)關(guān)頻率為2.2 MHz,VIN = 12 V,VOUT1 = 3.3 V,IOUT1 = 10 A,VOUT2 = 5 V,IOUT2 = 10 A。圖4顯示了EMI室中的測試設置。
 
圖5和圖6顯示了測試結果。在圖5中,較高EMI曲線(xiàn)表示使用標準CISPR 25設置測得的總電壓法CE,而較低輻射曲線(xiàn)表示添加0°合成器后測得的分離CM噪聲。在圖6中,較高輻射曲線(xiàn)表示總CE,而較低EMI曲線(xiàn)表示添加180°合成器后測得的分離DM噪聲。這些測試結果符合理論分析,表明DM噪聲在較低頻率范圍內占主導地位,而CM噪聲在較高頻率范圍內占主導地位。
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖5.測得的CM噪聲與總噪聲的關(guān)系
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖6.測得的DM噪聲與總噪聲的關(guān)系
 
調整后的演示板符合CISPR 25 Class 5標準
 
根據測量結果,在30 MHz至108 MHz范圍,總輻射噪聲超過(guò)了CISPR 25 Class 5的限值。通過(guò)分離CM和DM噪聲測量,發(fā)現此范圍內的高傳導輻射似乎是由CM噪聲引起的。添加或增強DM EMI濾波器或以其他方式降低輸入紋波幾乎沒(méi)有意義,因為這些抑制技術(shù)不會(huì )降低該范圍內引發(fā)問(wèn)題的CM噪聲。
 
因此,該演示板展示了專(zhuān)門(mén)解決CM噪聲的辦法。CM噪聲的來(lái)源之一是開(kāi)關(guān)電路中的高dV/dt信號。通過(guò)增加柵極電阻來(lái)降低dV/dt,可以降低該噪聲電平。如前所述,CM噪聲通過(guò)雜散電容CSTRAY穿過(guò)LISN。CSTRAY越小,在LISN中檢測到的CM噪聲就越低。為了減小CSTRAY,應減少此演示板上開(kāi)關(guān)節點(diǎn)的覆銅面積。此外,轉換器輸入端添加了一個(gè)CM EMI濾波器,以獲得高CM阻抗,從而降低進(jìn)入LISN的CM噪聲。通過(guò)實(shí)施這些辦法,30 MHz至108 MHz范圍的噪聲得以充分降低,從而符合CISPR 25 Class 5標準,如圖7所示。
 
傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實(shí)用方法
圖7.總噪聲得到改善
 
結論
 
本文介紹了一種用于測量和分離總傳導輻射中的CM噪聲和DM噪聲的實(shí)用方法,并通過(guò)測試結果進(jìn)行了驗證。如果設計人員能夠分離CM和DM噪聲,便可實(shí)施專(zhuān)門(mén)針對CM或DM的減輕解決方案來(lái)有效抑制噪聲??傊?,這種方法有助于快速找到EMI故障的根本原因,節省EMI設計的時(shí)間。
 
參考電路
 
“AN-10-006:了解功率分路器。” Mini-Circuits,2015年4月。
 
 
免責聲明:本文為轉載文章,轉載此文目的在于傳遞更多信息,版權歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權問(wèn)題,請聯(lián)系小編進(jìn)行處理。
 
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